全自動晶圓缺陷檢測係統
WI-6500AL

WI-6500AL全自動晶圓缺陷檢(jiǎn)測係統由(yóu)自動化上下料係統、視覺檢測係(xì)統、控製(zhì)軟件等(děng)組成,支持25片晶圓的自動缺陷檢測(cè)。該係統可(kě)檢測晶圓盒中晶圓數量和位置,快速定(dìng)位缺(quē)陷位置,提取缺陷(xiàn)圖像,判別缺陷類型(xíng),並將結果存儲在生產線係統數據庫中。本產品可用於inline或者後段環節,供操作人員和工程師快速分析(xī)產(chǎn)品整體工藝情況(kuàng)。該(gāi)係統相較於人工檢測優勢明顯,具備高檢測精(jīng)度、高檢測效(xiào)率,高準確率,減少誤判率和漏判率(lǜ);檢測(cè)結果(guǒ)穩定(dìng)性和重複性好。


產品特點

〇    最小缺陷:0.5μm,支持明暗場觀察(chá)

〇    晶圓尺寸:2~12英寸可定製(可支持藍膜等)

〇    自動化上下料(liào),每批可測試量(liàng):25pcs

〇    自動聚(jù)焦和(hé)分層聚焦圖像攝取

〇    機器視覺係統自動檢測

〇    缺陷分析、生成Map報告

產品應用

該係統適用於Silicon、SiC、GaAs、GaN、InP等(děng),有(yǒu)圖形與無圖形缺陷檢測,可檢測髒汙、波導(dǎo)斷裂、劃傷、顏色異常、針痕異常、矽裂、崩邊(biān)等等多種缺陷類型。

技術參數

視覺檢測係(xì)統

明暗場(chǎng)


DIC

成像類型

彩色/黑白(bái)

鏡頭倍數

1.25X/2.5X/5X/10X/20X/50X等

鏡頭電動切換

檢測缺(quē)陷

自動

缺陷類型

髒(zāng)汙/波導斷裂/劃傷/顏色異常/針痕異(yì)常/矽裂/崩邊等

缺陷分類

缺陷檢測失誤率

0.1%

最(zuì)小檢測精度

0.5μm

深(shēn)度學習模塊

氮氣吹掃功能

Chuck平台

兼容晶圓尺寸

2~12英寸(cùn)可定製;支持藍膜、芯片吸附(fù)盒等多種形(xíng)態

自動聚(jù)焦(jiāo)

XYZ和旋轉台

自動(dòng)加載

物料裝載

支持裝載1~2個cassette

預校準

Wafer-ID識別

使用環境

潔淨等級

千級/萬級

環境溫度

25℃±3

環境濕度

55~65%RH

軟(ruǎn)件

權限管理

區(qū)分工程師權限和操作員權限

金樣製作

軟件提供引導界麵,方便操作人員快速創建(jiàn)對比金樣

開放接口(kǒu)

支持客戶(hù)自己編寫圖像算法(fǎ),通過DLL或通訊方式(shì)控製機台實現缺陷檢(jiǎn)測

國際化

支持英文、簡體中文、繁體中文

圖片拚接

支持在指定(dìng)倍率下,將芯片所有部分(fèn)圖片拚接(jiē)成(chéng)一張圖片,並用ID命名

晶圓Map

支持自動/手動生成Map圖,測試過程中動態顯(xiǎn)示(shì)缺(quē)陷狀(zhuàng)態

分區檢測(cè)

支持不同區域缺(quē)陷按照不同指標進行判定


產品特點

產品應用

技術參數

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